[发明专利]一种LED外延结构及其制备方法和应用有效
申请号: | 202111520260.8 | 申请日: | 2021-12-13 |
公开(公告)号: | CN114203870B | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 黎国昌;徐志军;江汉;程虎;徐洋洋;王文君;苑树伟 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技(宿迁)有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/12;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人: | 逯长明;许伟群 |
地址: | 223865 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本申请示出一种LED外延结构及其制备方法和应用。LED外延结构包括:第一多量子阱发光层和第二多量子阱发光层;其中,第一多量子阱发光层的第一shoes层厚度设置为5埃至20埃;第一well层厚度设置为25埃至40埃,In组分设置为0%至3%;第一cap层厚度设置为5埃至20埃;第一Barrier层厚度设置为50至150埃,Si掺杂浓度设置为1e17至1e18,Al组分设置为10至20%;第二多量子阱发光层的第二shoes层厚度设置为5埃至20埃;第二well层厚度设置为25埃至40埃,In组分设置为4%至6%;第二cap层厚度设置为5埃至20埃;第二Barrier层厚度设置为50埃至150埃,Si掺杂浓度设置为1e17至1e18,Al组分设置为10%至20%。本申请示出的技术方案,能够解决365nm~375nm波段LED会发黄光的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 led 外延 结构 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
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