[发明专利]可重构肖特基二极管在审
申请号: | 202111525672.0 | 申请日: | 2021-12-14 |
公开(公告)号: | CN114141884A | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 张增星;盛喆;余睿 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路制造创新中心有限公司 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/45;H01L29/47;H01L29/06;H01L29/24 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种可重构肖特基二极管,包括栅电极层、栅介质层、沟道层、源电极和漏电极,所述栅介质层设置于所述栅电极层的一面,所述沟道层设置于所述栅介质层背向所述栅电极层的一面,且为双极性半导体,栅极电压能够控制沟道层在P型和N型之间连续变化,所述源电极设置于所述沟道层背向所述栅介质层的一面,且与所述沟道层之间为肖特基接触,所述漏电极设置于所述沟道层背向所述栅介质层的一面,且与所述沟道层之间为欧姆接触,进而使得栅极电压能够控制沟道层表现出金属P型半导体肖特基二极管的整流特性和金属N型半导体肖特基二极管的整流特性,实现了所述可重构肖特基二极管的可重构性。 | ||
搜索关键词: | 可重构肖特基 二极管 | ||
【主权项】:
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