[发明专利]可重构肖特基二极管在审

专利信息
申请号: 202111525672.0 申请日: 2021-12-14
公开(公告)号: CN114141884A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 张增星;盛喆;余睿 申请(专利权)人: 上海集成电路制造创新中心有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/45;H01L29/47;H01L29/06;H01L29/24
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 黄海霞
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种可重构肖特基二极管,包括栅电极层、栅介质层、沟道层、源电极和漏电极,所述栅介质层设置于所述栅电极层的一面,所述沟道层设置于所述栅介质层背向所述栅电极层的一面,且为双极性半导体,栅极电压能够控制沟道层在P型和N型之间连续变化,所述源电极设置于所述沟道层背向所述栅介质层的一面,且与所述沟道层之间为肖特基接触,所述漏电极设置于所述沟道层背向所述栅介质层的一面,且与所述沟道层之间为欧姆接触,进而使得栅极电压能够控制沟道层表现出金属P型半导体肖特基二极管的整流特性和金属N型半导体肖特基二极管的整流特性,实现了所述可重构肖特基二极管的可重构性。
搜索关键词: 可重构肖特基 二极管
【主权项】:
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