[发明专利]一种高沉积率的OVD反应装置和OVD反应方法有效
| 申请号： | 202111529506.8 | 申请日： | 2021-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN114031287B | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 赵辉 | 申请（专利权）人： | 藤仓烽火光电材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C03B37/014 | 分类号： | C03B37/014 |
| 代理公司： | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人： | 彭程程 |
| 地址： | 430205 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及光纤预制棒制造技术领域，公开了一种高沉积率的OVD反应装置以及OVD反应方法，包括：至少一个喷灯，喷灯的喷口朝向光纤预制棒且喷射反应火焰；反应容器，罩设在光纤预制棒外；给气装置，其包括设置在光纤预制棒侧面的至少一个给气通道；所述给气通道的轴线朝向所述出口方向倾斜，并且给气通道喷出的气流落在光纤预制棒不与反应火焰接触的表面。本发明具有以下优点和效果：本申请由于利用降温导流气体喷射反应火焰无法涉及的位置，降低沉积体的表面温度，拉大了沉积体表面和反应火焰的温度差，有效的提高了沉积效率。另外本申请中面向排气口侧吹空气，不会扰乱反应容器内气体的气流，因此沉积效果不会恶化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 ovd 反应 装置 方法 | ||
【主权项】：
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