[发明专利]发光装置和投影仪在审
| 申请号： | 202111541579.9 | 申请日： | 2021-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN114649452A | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 野田贵史;北野洋司 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/10 | 分类号： | H01L33/10;H01L33/20;H01L33/38 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;方冬梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供发光装置和投影仪。该发光装置能够减小发光强度在电极的外缘附近的降低量。发光装置具有n个柱状部和向所述n个柱状部注入电流的电极，所述n个柱状部各自具有第1半导体层、导电型与所述第1半导体层不同的第2半导体层以及设置在所述第1半导体层与所述第2半导体层之间的发光层，从所述第1半导体层与所述发光层的层叠方向观察时，所述n个柱状部中的p个第1柱状部不与所述电极的外缘重叠，所述n个柱状部中的q个第2柱状部与所述电极的外缘重叠，所述q个第2柱状部中的中心与所述电极重叠的第2柱状部的数量比中心不与所述电极重叠的第2柱状部的数量多。其中，n＝p+q。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 投影仪 | ||
【主权项】：
暂无信息
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