[发明专利]过渡金属沉积方法在审
| 申请号： | 202111549045.0 | 申请日： | 2021-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN114657530A | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | C.德泽拉;J.W.梅斯;E.费尔姆;S.阿里;A.尼斯卡宁 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/18 | 分类号： | C23C16/18;C23C16/455;H01L21/3205 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及在衬底上沉积过渡金属的方法。本公开还涉及过渡金属层、包括过渡金属层的结构和器件。在该方法中，过渡金属通过循环沉积过程沉积在衬底上，并且该方法包括在反应室中提供衬底，以气相向反应室提供过渡金属前体，以及以气相向反应室提供反应物，以在衬底上形成过渡金属。过渡金属前体包括来自第4至6族中任一族的过渡金属，反应物包括选自Si,Ge或Sn的第14族元素。 | ||
| 搜索关键词： | 过渡 金属 沉积 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
