[发明专利]掩膜版的调整方法及制作方法在审
| 申请号： | 202111566041.3 | 申请日： | 2021-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN114318224A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 孙琳;李露露 | 申请（专利权）人： | 合肥维信诺科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;B21F33/02 |
| 代理公司： | 广东君龙律师事务所 44470 | 代理人： | 丁建春 |
| 地址： | 230001 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及掩膜版技术领域，公开了一种掩膜版的调整方法及制作方法。通过确定掩膜版的框架的实际形变量与理论形变量的差异值，对理论反作用力的大小进行调整，得到目标反作用力并应用于制作掩膜版。其中，理论反作用力的调整幅度匹配该差异值，使得目标反作用力能够尽可能抵消掩膜单元施加于框架的拉力，进而缓解掩膜版上的掩膜开口的偏位情况，有利于提高所制作像素的像素位置精度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 调整 方法 制作方法 | ||
【主权项】：
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