[发明专利]一种适用于普抗8μm锂电铜箔延伸率稳定提升的添加剂及其使用方法在审
| 申请号： | 202111569519.8 | 申请日： | 2021-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN114086219A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 文敏;江泱;杨帅国 | 申请（专利权）人： | 九江德福科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/04 | 分类号： | C25D1/04 |
| 代理公司： | 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 | 代理人： | 唐忠庆 |
| 地址： | 332000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于普抗8μm锂电铜箔延伸率稳定提升的添加剂及其使用方法，添加剂包括苯并咪唑二硫代甲酸丙磺酸钠、邻苯甲酰磺酰亚胺钠、健那绿B、聚乙二醇、盐酸；使用方法为将添加剂加入硫酸铜电解液中，使电解液中铜离子90‑110 g/L、硫酸根100‑120 g/L、苯并咪唑二硫代甲酸丙磺酸钠1‑10 ppm、邻苯甲酰磺酰亚胺钠1‑15 ppm、健那绿B 10‑50 ppm、聚乙二醇1‑20 ppm、氯离子15‑30 ppm。该添加剂及其使用方法所生产的普抗8μm锂电铜箔稳定抗拉强度稳定、表面粗糙度低、厚度均匀，可稳定提升的延伸率，常温抗拉强度340 MPa~350 MPa，延伸率≥10%。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 铜箔 延伸 稳定 提升 添加剂 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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