[发明专利]离子阱质谱仪的离子隔离方法、系统及介质在审
| 申请号： | 202111573135.3 | 申请日： | 2021-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN114388334A | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 薛兵;孙露露;路同山;胡波;唐朝阳;王玉涵;罗勇;李飞;陈延龙 | 申请（专利权）人： | 上海裕达实业有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/02 | 分类号： | H01J49/02;H01J49/26 |
| 代理公司： | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人： | 王丹东;郭国中 |
| 地址： | 200245 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子阱质谱仪的离子隔离方法、系统及介质，涉及质量分析技术领域，包括：离子引入步骤：打开离子阱的离子门，将质谱仪的后端盖置于预设电位，捕捉离子；离子囚禁步骤：关闭离子门，捕捉的离子稳定在离子阱中心区域；离子隔离步骤：根据正电压所占DDS数量和/或隔离时间，获取母离子质荷比m/z、隔离质量数范围以及母离子隔离效率值中的任一种或任多种；隔离冷却步骤：将离子置于预设值处，根据预设隔离冷却时间对离子进行冷却；离子清空步骤：在离子阱电极上施加预设占空比，完成离子清空。本发明硬件要求低，通过调节数字矩形波主射频的占空比，就可在离子阱中产生等效的“四极直流”，无需额外高精度高稳定性的硬件直流电路。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 质谱仪 隔离 方法 系统 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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