[发明专利]原子层沉积反应气体的制备机构及其制备方法在审
申请号: | 202111590788.2 | 申请日: | 2021-12-23 |
公开(公告)号: | CN114438476A | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 周向前 | 申请(专利权)人: | 周向前 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455 |
代理公司: | 上海上谷知识产权代理有限公司 31342 | 代理人: | 胡五荣 |
地址: | 201807 上海市嘉定区城北路1*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种原子层沉积反应气体的制备机构及其制备方法,制备机构包括:反应源、载气源和反应气体罐,所述反应源内可操作地储有原子层沉积反应液;所述载气源通过载气管道与所述反应源连通,所述载气管道可操作地插入所述反应液内;所述反应气体罐与所述反应源连通,所述反应气体罐能够密封。本发明提供了一种原子层沉积反应气体的制备机构,该机构包括:反应源和反应气体罐,反应源内的反应气体被载气携带进入反应气体罐内,反应气体和载气在反应气体罐内被密封。当小型实验室需要对原子层沉积反应进行实验时,可以仅仅购买一罐反应气体罐,将反应气体罐接入原子层沉积反应室上,就能够进行原子层沉积实验。 | ||
搜索关键词: | 原子 沉积 反应 气体 制备 机构 及其 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的