[发明专利]一种用于提高离子真空镀膜均匀性的离子镀膜源装置在审
| 申请号： | 202111597615.3 | 申请日： | 2021-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN114107915A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 张心凤;夏正卫 | 申请（专利权）人： | 安徽纯源镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 合肥九道和专利代理事务所(特殊普通合伙) 34154 | 代理人： | 胡发丁 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于提高离子真空镀膜均匀性的离子镀膜源装置，包括源底座，源底座上设置有源阳极管和靶材装置，真空腔室上具有连接装置，连接装置和源阳极管之间进行可拆卸式密封装配连接，靶材安装在靶材装置上，源阳极管上设置有用于敲击靶材的敲击装置，还包括对靶材上离化面的平整度进行修整的修面机构。本发明提供的上述技术方案，通过设置的修面机构，使得靶材离化面一直保持平整状态，提高了镀膜的均匀性，使镀膜工艺更稳定，并可大量镀膜，提高产量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 提高 离子 真空镀膜 均匀 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
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