[发明专利]应用于汉虹单晶炉的单晶退火产品的生长方法有效

专利信息
申请号: 202111601688.5 申请日: 2021-12-24
公开(公告)号: CN114277433B 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 芮阳;王忠保 申请(专利权)人: 宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司
主分类号: C30B15/20 分类号: C30B15/20;C30B29/06;C30B33/02
代理公司: 宁夏三源鑫知识产权代理事务所(普通合伙) 64105 代理人: 杨畅
地址: 750000 宁夏回族自*** 国省代码: 宁夏;64
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摘要: 发明提供一种应用于汉虹单晶炉的单晶退火产品的生长方法,属于单晶退火工艺的技术领域,在单晶炉内设置内热屏、水冷套,所述内热屏位于硅溶液的上方,所述内热屏的下端内壁与单晶炉中轴线形成的角度为22.5°‑30°,所述水冷套位于所述内热屏的上方,所述水冷套与所述单晶炉的内壁连接,所述水冷套距硅溶液液面的高度为100mm‑300mm;在单晶炉内通入氩气,将单晶棒从硅溶液中拉出的拉速为1mm/min‑1.5mm/min,在单晶炉内建立有温度梯度的热环境,当单晶棒从硅溶液中拉出的过程中,晶棒的边缘温度与中心温度接近,使得将单晶棒从硅溶液中以预定的拉速拉出,使得整个晶棒在降温凝固时生长的界面更加趋于平坦,更加有利于高密度、颗粒直径小的COP形成。
搜索关键词: 应用于 汉虹单晶炉 退火 产品 生长 方法
【主权项】:
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