[发明专利]一种低压驱动冲击冷却结构在审
申请号: | 202111616263.1 | 申请日: | 2021-12-27 |
公开(公告)号: | CN114320483A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 陶智;姚广宇;朱剑琴;邱璐;李地科;王燕嘉 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | F01D5/18 | 分类号: | F01D5/18 |
代理公司: | 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 彭豆 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种低压驱动冲击冷却结构,该冷却结构包括层板冷却结构;所述层板冷却结构形成于双层壁叶片的冷气夹层处;所述层板冷却结构一端为高压区,所述层板冷却结构另一端为低压区;所述层板冷却结构的高压区处开设有冲击孔,所述层板冷却结构的低压区开设有驱动孔。本发明的冷却结构的前缘使用低压驱动的冲击冷却方法,前缘冷却结构通过叶身内部通道连接到叶背、尾缘等主流压力较低的区域,冲击后的冷气经由叶片内部通道整理后对叶背、尾缘等区域进行冷却,进一步节约冷气,前缘使用冲击冷却,冷却效果好,重复利用前缘冷气,在来流2000K的条件下,除前缘叶根的小部分区域外,叶片表面温度均可以冷却到1200K以下。 | ||
搜索关键词: | 一种 低压 驱动 冲击 冷却 结构 | ||
【主权项】:
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