[发明专利]一种低压驱动冲击冷却结构在审

专利信息
申请号: 202111616263.1 申请日: 2021-12-27
公开(公告)号: CN114320483A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 陶智;姚广宇;朱剑琴;邱璐;李地科;王燕嘉 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: F01D5/18 分类号: F01D5/18
代理公司: 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 代理人: 彭豆
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种低压驱动冲击冷却结构,该冷却结构包括层板冷却结构;所述层板冷却结构形成于双层壁叶片的冷气夹层处;所述层板冷却结构一端为高压区,所述层板冷却结构另一端为低压区;所述层板冷却结构的高压区处开设有冲击孔,所述层板冷却结构的低压区开设有驱动孔。本发明的冷却结构的前缘使用低压驱动的冲击冷却方法,前缘冷却结构通过叶身内部通道连接到叶背、尾缘等主流压力较低的区域,冲击后的冷气经由叶片内部通道整理后对叶背、尾缘等区域进行冷却,进一步节约冷气,前缘使用冲击冷却,冷却效果好,重复利用前缘冷气,在来流2000K的条件下,除前缘叶根的小部分区域外,叶片表面温度均可以冷却到1200K以下。
搜索关键词: 一种 低压 驱动 冲击 冷却 结构
【主权项】:
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