[发明专利]LED芯片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111618418.5 申请日: 2021-12-27
公开(公告)号: CN114242860A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 闫其昂;王国斌;周溯沅 申请(专利权)人: 江苏第三代半导体研究院有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/00
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 史治法
地址: 210000 江苏省苏州市苏州工业园*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种LED芯片及其制备方法,LED芯片的制备方法,包括:提供基底;提供基底;形成外延结构及退火层;外延结构位于所述基底的上表面,退火层位于外延结构的上表面,退火层暴露出外延结构;于退火层的上表面及暴露出的外延结构上形成第一电极,退火层在退火处理时向外延结构内注入电子,以提高外延结构内的空穴浓度,从而改善电子和空穴分布不均匀,避免因电子浓度高、迁移快导致电子溢散至外延结构中的问题,提高空穴的离化效率和辐射复合效率,改善大电流下效率骤降效应。
搜索关键词: led 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
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