[发明专利]一种掩模版传输组件及光刻系统在审
| 申请号： | 202111627327.8 | 申请日： | 2021-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN114280897A | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 王浩楠;关宏武;郎平;林继柱;佀海燕;温鹏 | 申请（专利权）人： | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 田卫平 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模版传输组件及光刻系统，包括第一版库，用于承载版盒，第一版库连接有第一升降结构，以通过第一升降结构将目标掩模版传输至第一交接工位；第一机械手，被配置为在第一交接工位获取目标掩模版，并放入第二版库；第二版库，用于承载目标掩模版，第二版库连接有第二升降结构，以通过第二升降结构实现在第一交接工位与第二交接工位之间的移动，第二交接工位具有第二高层，且第二高层高于第一高层；第二机械手，被配置为在第二交接工位，从第二版库中取出目标掩模版，并传输至光刻机的掩模台。本公开的掩模版传输组件及光刻系统，通过可升降的第一版库和第二版库的配合，实现友好上料的同时提高掩模版的转运效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模版 传输 组件 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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