[发明专利]一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法有效
| 申请号： | 202111628727.0 | 申请日： | 2021-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN114277354B | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | 徐旻生;庄炳河;张永胜;张晓鹏;伍发根;杨凤鸣 | 申请（专利权）人： | 深圳奥卓真空设备技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 深圳市圳博友邦专利代理事务所(普通合伙) 44600 | 代理人： | 王玲玲 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙岗区坂田街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，属于光学镜头防污、抗指纹领域。本发明包括安装在设备上方的蒸发源单体，蒸发源单体包括药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口，所述药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口从上至下依次密封固定联接，该真空腔体安装在蒸发源单体的下方，蒸发源接口与真空腔体接驳。本发明采用带旋转机构的蒸发源系统，多套蒸发源系统更换工作，能够使加热器有足够时间冷却并添加药液，实现节拍3～5分钟快速AF(AS)连续镀膜生产，大规模批量化生产成为现实；采用矩阵式AF蒸发源点阵，在确保均匀性及耐磨性前提下，AF药液用量的经济最优化实现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 af 连续 真空镀膜 设备 及其 均匀 控制 方法 | ||
【主权项】：
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