[发明专利]半导体工艺设备及其晶圆传输系统在审

专利信息
申请号: 202111629651.3 申请日: 2021-12-28
公开(公告)号: CN114361086A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 赵东华;杜林昕;李晓军;王磊磊;李世凯;刘晶晶;王铁然;孙小芹;宫兆辉;许利飞 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/67
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;王婷
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种晶圆传输系统,包括传输腔、第一传输组件、加载腔、第二传输组件和校准腔,传输腔用于与反应腔室连通;加载腔的一侧与传输腔连通,另一侧具有传输口;第二传输组件用于通过传输口将晶圆传输至加载腔中的托盘上,以及由加载腔中的托盘上取下晶圆并将晶圆传出加载腔;校准腔中设置有校准组件,用于对托盘位置进行校准;第一传输组件用于将托盘传入校准腔中对托盘位置进行校准,并将校准后的托盘由校准腔中取出并传入加载腔中,还用于将承载有晶圆的托盘由加载腔中取出并传入反应腔室中。在本发明中,第一传输组件能够配合校准腔对托盘的位置进行校准,实现碳化硅晶圆的自动化传片、取片。本发明还提供一种半导体工艺设备。
搜索关键词: 半导体 工艺设备 及其 传输 系统
【主权项】:
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