[发明专利]等离子处理设备有效
| 申请号： | 202111648858.5 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114360999B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 蔡瀚霆;匡友元 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例公开了一种等离子处理设备，等离子体发生器用于朝第一方向输出等离子体；等离子体发生器、基板载台、框形载台沿第一方向依次设置，等离子体通过基板载台的等离子处理开口输出至基板的待处理表面；其中，容纳腔包括基板载台分割而成的第一腔体和第二腔体，第一腔体和第二腔体通过等离子处理开口连通；其中，当基板设置于基板载台上时，框形载台接触基板载台的表面和基板远离基板载台的表面，以使得第一腔体和第二腔体隔离，从而防止等离子体向待处理基板的待处理表面的背面逸散，可以限定等离子处理的范围，从而提升显示面板的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 设备 | ||
【主权项】：
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