[发明专利]一种垂直共振腔面射激光元件在审
| 申请号： | 202111662019.9 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114361942A | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 林志远;欧政宜;纪政孝 | 申请（专利权）人： | 兆劲科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183 |
| 代理公司： | 深圳市中科云策知识产权代理有限公司 44862 | 代理人： | 章明美;陈科恒 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学园区*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种垂直共振腔面射激光元件，包括依序堆栈的：基底、穿隧接面层、第一镜层、主动层、氧化层及第二镜层，所述第一镜层是p型分布式布拉格反射镜层，所述第二镜层是n型分布式布拉格反射镜层，利用穿隧接面层使得垂直共振腔面射激光元件可以将氧化层上方的P‑DBR转置成N‑DBR，使得主动层温度降低，而且光场趋近在主动层的量子井结构的中间位置耦合发光，使得发光总能量能够随着电流的提高而有效地增加。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 垂直 共振 腔面射 激光 元件 | ||
【主权项】：
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