[发明专利]一种边射型激光元件在审
| 申请号： | 202111662184.4 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114361935A | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 欧政宜;林志远;纪政孝 | 申请（专利权）人： | 兆劲科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/028 | 分类号： | H01S5/028 |
| 代理公司： | 深圳市中科云策知识产权代理有限公司 44862 | 代理人： | 章明美;陈科恒 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学园区*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种边射型激光元件，包括：基底、n型缓冲层、第一n型披覆层、光栅层、间隔层、下光局限单元、主动层、上光局限单元、p型披覆层、穿隧接面层及第二n型披覆层，穿隧接面层具有阻绝蚀刻过程的继续以将第二n型披覆层成形出预定脊状构造态样的功效。利用穿隧接面层使得一部分的p型披覆层转置成n型披覆层后将EEL元件的串联电阻降低，并使得光场与主动层耦合更趋向在主动层的中间位置以使得主动层的下半部也能够被有效的运用，以及使得光场与该光栅层相距较近，光场/光栅的耦光效率较佳，进而降低临界电流值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 边射型 激光 元件 | ||
【主权项】：
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