[发明专利]一种新型底部抗反射涂层组合物及其制备方法在审
| 申请号： | 202111671202.5 | 申请日： | 2021-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN114706273A | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 顾大公;夏力;马潇;陈鹏;卢汉林;许从应;毛智彪 | 申请（专利权）人： | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人： | 左光明 |
| 地址： | 315800 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种新型底部抗反射涂层组合物及其制备方法，所述底部抗反射涂层组合物包括下述质量百分比的原料：主体树脂0.5％‑15％、含芳环结构的交联剂A 5％‑15％、交联剂B 0.1％‑5％、热敏酸0.1％‑1％、余量为溶剂。该底部抗反射涂层组合物含有芳环结构，特别是当含有芳基的甘脲结构，可以通过改变含芳基的比例，方便的调整n/k值，大大降低底部抗反射涂层组合物产品在n/k值方面的调整难度，减少光刻胶底部界面出现反射和诸如驻波等问题，提高光刻工艺中线宽解析度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 底部 反射 涂层 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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