[发明专利]光刻加工系统及方法在审

专利信息
申请号: 202111675220.0 申请日: 2021-12-31
公开(公告)号: CN114326327A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 徐少林;乔靖宇;黄佳旭;徐康;黄凌羽 申请(专利权)人: 南方科技大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 洪铭福
地址: 518055 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种光刻加工系统及方法,本申请的光刻加工系统包括光源模块、能量调节模块、光束调制模块、光束整形模块、聚焦模块和位移模块。能量调节模块与光源模块耦合连接;光束调制模块与能量调节模块耦合连接;光束整形模块与光束调制模块耦合连接;聚焦模块与光束整形模块耦合连接,其中,聚焦模块包括平凸柱面透镜;位移模块用于带动待加工样品移动。本申请通过光束整形模块和聚焦模块的处理,能够获得能量均匀分布、面积更大的线光源,从而能够对待加工样品进行均匀烧蚀,能够提高加工效率;同时,利用位移模块带动待加工样品移动,以对下一区域进行加工,从而能够实现大面积微纳结构的制备。
搜索关键词: 光刻 加工 系统 方法
【主权项】:
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