[发明专利]光刻加工系统及方法在审
申请号: | 202111675220.0 | 申请日: | 2021-12-31 |
公开(公告)号: | CN114326327A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 徐少林;乔靖宇;黄佳旭;徐康;黄凌羽 | 申请(专利权)人: | 南方科技大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 洪铭福 |
地址: | 518055 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本申请公开了一种光刻加工系统及方法,本申请的光刻加工系统包括光源模块、能量调节模块、光束调制模块、光束整形模块、聚焦模块和位移模块。能量调节模块与光源模块耦合连接;光束调制模块与能量调节模块耦合连接;光束整形模块与光束调制模块耦合连接;聚焦模块与光束整形模块耦合连接,其中,聚焦模块包括平凸柱面透镜;位移模块用于带动待加工样品移动。本申请通过光束整形模块和聚焦模块的处理,能够获得能量均匀分布、面积更大的线光源,从而能够对待加工样品进行均匀烧蚀,能够提高加工效率;同时,利用位移模块带动待加工样品移动,以对下一区域进行加工,从而能够实现大面积微纳结构的制备。 | ||
搜索关键词: | 光刻 加工 系统 方法 | ||
【主权项】:
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