[发明专利]VCSEL芯片的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111677638.5 申请日: 2021-12-31
公开(公告)号: CN114361943A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 郭铭浩;周圣凯;赖威庭;王立;李念宜 申请(专利权)人: 浙江睿熙科技有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;C30B33/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 刘娜
地址: 311113 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种VCSEL芯片的制备方法。VCSEL芯片的制备方法包括:步骤S10:获取VCSEL芯片的预设氧化图形;步骤S20:获取VCSEL芯片的限制层的不同方向的氧化速率;步骤S30:根据预设氧化图形和VCSEL芯片的不同方向的氧化速率确定各个氧化开孔的大小和位置;步骤S40:在预设时间内,在限制层上氧化出氧化图形。本发明解决了现有VCSEL技术中形成偏振的设计较难的问题。
搜索关键词: vcsel 芯片 制备 方法
【主权项】:
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