[实用新型]一种适用于PECVD设备制备氧化层工艺的气路传输系统

摘要

一种适用于PECVD设备制备氧化层工艺的气路传输系统属于管式PECVD设备制备氧化层工艺设备技术领域。具体地说，本实用新型提供一种能在沉积基体上化学吸附并反应形成沉积膜，从而能制备出较薄且均匀性、一致性好的氧化层膜的适用于PECVD设备制备氧化层工艺的气路传输系统。本实用新型的特征在于：特气气路包括源管道、第一管道、第二管道、氮气管道和氧气管道。所述气源气路包括氮气气源、氧气气源和氩气气源。所述氮气气源通过特气气路的氮气管道与反应腔连接；所述氧气气源通过特气气路的氧气管道与反应腔连接；所述氩气气源通过特气气路的源管道与反应腔连接，反应腔末端为真空泵。