[实用新型]一种光源系统以及投影系统有效
| 申请号： | 202120145119.3 | 申请日： | 2021-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN215067701U | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 杜鹏;瞿玉丽;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 黎坚怡 |
| 地址： | 518052 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光源系统以及投影系统，该光源系统包括：第一发光组件与匀光系统，第一发光组件用于产生第一光束；匀光系统设置于第一发光组件的出射光路上，用于对第一光束进行匀光；其中，第一光束的快轴方向与匀光系统的第一方向对应，第一光束的慢轴方向与匀光系统的第二方向对应，第一方向为匀光系统的光学扩展量大于预设光学扩展量的方向，第二方向为匀光系统的光学扩展量小于或等于预设光学扩展量的方向。通过上述方式，本申请能够消除3D设备产生的条纹。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光源 系统 以及 投影 | ||
【主权项】：
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