[实用新型]一种ALD加工设备

摘要

本实用新型涉及一种ALD加工设备。加工设备的反应器包括真空腔室以及内置于真空腔室内的反应腔室，反应腔室的底部开设有相对设置的进气通道及出气通道，反应腔室的侧壁上设置有第一料口，真空腔室的侧壁上设置有第二料口，送料腔室设置在反应器的外侧，送料腔室的侧面上设置有第三料口和第四料口，第三料口和第二料口之间设置有可开启的第三密封门，送料腔室上设置有可将第四料口开闭的第四密封门，输送装置设置在送料腔室内，输送装置包括输送机构、第一密封门以及第二密封门，第一密封门可密封第一料口，第二密封门可密封第二料口，第一密封门背向第二密封门的侧面上设置有用于放置基体的支撑件。本实用新型保证沉积膜的成型质量和一致性。