[实用新型]一种基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置有效

专利信息
申请号: 202120176414.5 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN214176410U 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 周沛;李坤曦;李念强;杨闯;傅剑斌;刘世锋 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: H01S5/0687 分类号: H01S5/0687
代理公司: 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 代理人: 王利斌
地址: 215137 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,包括射频信号源、第一主激光器、第二主激光器,第一主激光器与第二主激光器远离射频信号源的另一端均设有光耦合器,光耦合器远离第一主激光器与第二主激光器的另一端设有光环行器,光环行器远离光耦合器的另外两端分别设有从激光器与光电探测器,第一主激光器、第二主激光器与光耦合器分别设有第一光衰减器、第一偏振控制器、第二光衰减器与第二偏振控制器。本实用新型的有益效果:核心部件为商用单模半导体激光器,具有结构简单、体积小、成本低的优点,所产生的微波频率梳具有带宽大、平坦度好、调谐灵活的优点,可产生更大带宽的微波频率梳的特点,成本低廉、易于实现。
搜索关键词: 一种 基于 注入 半导体激光器 微波 频率 产生 装置
【主权项】:
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