[实用新型]一种电容器基膜加工用电晕处理设备有效
| 申请号： | 202120196822.7 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN214541919U | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 麦灼棠 | 申请（专利权）人： | 安徽旭峰电容器有限公司 |
| 主分类号： | H01G4/33 | 分类号： | H01G4/33;H01G13/00 |
| 代理公司： | 合肥东信智谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34143 | 代理人： | 聂永旺 |
| 地址： | 242000 安徽省宣*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种电容器基膜加工用电晕处理设备，包括输送组件，所述输送组件包括第一输送辊、第一电晕辊、第二电晕辊以及第二输送辊；基膜依次穿过第一输送辊底部、第一电晕辊顶部、第二电晕辊底部以及第二输送辊顶部；所述第一电晕辊的顶部安装有第一电晕机构、底部安装有第一臭氧净化机构；所述第二电晕辊的顶部安装有第二臭氧净化机构，所述第一臭氧净化机构、第二臭氧净化机构之间连通，所述第一臭氧净化机构的内部安装有抽风机；本实用新型通过抽风机也可使得臭氧净化机构转变为负压状态，提高了臭氧处理效率；围挡罩能够从外部围挡基膜，避免臭氧溢出，使得臭氧能够完全被吸入第一净化箱内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电容器 基膜加 工用 电晕 处理 设备 | ||
【主权项】：
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