[实用新型]一种样品托、样品托组件及等离子体化学气相沉积设备有效
申请号: | 202120203772.0 | 申请日: | 2021-01-25 |
公开(公告)号: | CN214383795U | 公开(公告)日: | 2021-10-12 |
发明(设计)人: | 黄春林;胡宗义;季宇 | 申请(专利权)人: | 成都纽曼和瑞微波技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50;C23C16/46 |
代理公司: | 北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11394 | 代理人: | 孔鹏 |
地址: | 610000 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种样品托、样品托组件及等离子化学气相沉积设备,属于等离子体设备领域。样品托组件包括基底及样品托,基体上设置有安装凹槽,样品托固定设置在安装凹槽中。上述样品托包括一体成型的样品托本体及导热凸台,导热凸台设置在样品托本体的底面。使用时,导热凸台与基底直接或间接接触。由于样品托中心温度高于边缘温度,而样品托中心的热量可以通过导热凸台传递到基底上,进而提高样品托的温度均匀性,提高固态膜的品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 样品 组件 等离子体 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的