[实用新型]一种双面加热的MOCVD设备

摘要

本实用新型涉及MOCVD设备技术领域，尤其涉及一种双面加热的MOCVD设备，包括供电系统、供气系统、水冷系统、反应腔、加热系统和尾气处理系统，反应腔包括腔壁、气体分配装置、托盘、隔离罩和旋转模块，气体分配装置设置在腔壁的顶部，托盘安装在旋转模块的顶部，尾气处理系统包括两个排气管路，两个排气管路分别设置在腔壁的底部两侧，隔离罩安装在加热系统与托盘外侧，加热系统包括背面加热模块和表面加热模块，背面加热模块安装在托盘的背面，表面加热模块安装在腔壁上，用来解决单面加热衬底时，衬底下表面的温度始终高于上表面，导致在外延过程中，衬底始终有一个翘曲，从而使衬底表面温度不均匀，并会引入应力影响外延晶体质量的问题。