[实用新型]一种β平面源有效
| 申请号： | 202120296157.9 | 申请日： | 2021-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN214624459U | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 刘明阳;高岩;王念;任春侠;王安达;付轲新;李翔 | 申请（专利权）人： | 原子高科股份有限公司 |
| 主分类号： | G21G4/04 | 分类号： | G21G4/04;G21G4/06 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 权鲜枝;杨博涛 |
| 地址： | 100089 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种β平面源，该β平面源包括：基材托片和封堵层；基材托片的至少部分表面经过氧化，形成有氧化膜区域，氧化膜区域填充有放射性材料；封堵层用于阻止放射性材料渗出，覆盖在基材托片的氧化膜区域表面。本申请的β平面源，在使用基材托片的氧化膜区域吸附填充有放射性材料的基础上，设置封堵层，覆盖在氧化膜区域之上，以此阻止放射性材料渗出，从而提高了β平面源的使用寿命和检测效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 | ||
【主权项】：
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