[实用新型]一种半导体生产用石英初步清洗设备有效
| 申请号： | 202120318208.3 | 申请日： | 2021-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN214555784U | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 薄耀辉 | 申请（专利权）人： | 湖州奥辉石英科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B1/04;F26B21/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市南浔区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及清洗设备领域，且公开了一种半导体生产用石英初步清洗设备，包括外壳、支撑板、固定板、支撑架、顶板、移动仓以及调节装置，所述外壳的底部设有支撑板，所述支撑板设有两个，且支撑板固定连接于外壳，所述固定板设于两个支撑板之间，且固定板的两端固定连接于支撑板，所述支撑架的底部固定连接于外壳的顶部，所述顶板的底部固定连接于支撑架的顶部，所述移动仓设于外壳的内腔中，且移动仓通过调节装置活动连接于外壳，该实用新型，使得石英可以方便的实现清洗，且结构简单便于操作，此外，通过调节装置、风扇以及电阻丝的相互配合，使得石英在清洗后可以边沥水边吹风，加快了石英的干燥速度，节约了工作人员的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 生产 石英 初步 清洗 设备 | ||
【主权项】：
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