[实用新型]氧化镓晶片退火处理装置有效

专利信息
申请号: 202120458368.8 申请日: 2021-03-03
公开(公告)号: CN214782265U 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 吴义凯;黄安平;田京生 申请(专利权)人: 珠海经济特区方源有限公司
主分类号: C30B33/02 分类号: C30B33/02;C30B29/16
代理公司: 深圳至诚化育知识产权代理事务所(普通合伙) 44728 代理人: 刘英
地址: 519031 广东省珠海市香洲区宝南路317号*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了氧化镓晶片退火处理装置,属于氧化镓晶片退火处理领域。氧化镓晶片退火处理装置,包括底座,限位杆侧壁连接有移动机构,移动机构包括驱动电机,驱动电机固定连接在限位杆侧壁,驱动电机输出端连接有连接杆,连接杆侧壁转动连接有第一转轴,第一转轴侧壁转动连接有连杆,连杆远离第一转轴的一端转动连接有第二转轴,第二转轴外壁转动连接有驱动块,驱动块侧壁连接有支撑圆盘,支撑圆盘底部连接有夹持机构,夹持机构加持端与晶片相配合;本实用新型通过夹持机构和移动机构相配,合实现夹取释放功能,可使夹持机构在夹取高度和夹取位置可进行调节,提高移动效率,可根据不同环境进行移动设定,减少移动时间,提高品控。
搜索关键词: 氧化 晶片 退火 处理 装置
【主权项】:
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