[实用新型]一种反光膜表面处理装置有效
申请号: | 202120476082.2 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN214226931U | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 高瑞;丁培兴;刘浩 | 申请(专利权)人: | 苏州高德辰光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/054 |
代理公司: | 江苏致邦律师事务所 32230 | 代理人: | 张明立 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型设计的一种反光膜表面处理装置,本实用新型的中间辊筒使用直径120mm铝辊,上下辊筒使用直径80mm辊筒,直径80mm辊筒与直径120mm铝辊圆心距为160mm,以此来形成包角,避免损伤反光膜结构,使反光膜经过设备的处理后在组件层压使用过程中不出现偏移现象,提高反光膜与焊带之间的层间剥离力,保护电镀层表面不会出现划伤,反射面结构不会出现损坏,包装反射面反射效果,使用本装置处理后的反射膜完全可以达到预期要求,所有反光膜加工的设备都可以使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 反光 表面 处理 装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的