[实用新型]一种溅镀空间可调的溅镀机有效
申请号: | 202120496896.2 | 申请日: | 2021-03-09 |
公开(公告)号: | CN215560626U | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 王光华 | 申请(专利权)人: | 赫得纳米科技(昆山)有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 上海创开专利代理事务所(普通合伙) 31374 | 代理人: | 汪发成 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种溅镀空间可调的溅镀机,溅镀仓,所述溅镀仓的一侧连接有溅镀气体入口,所述溅镀仓的另一侧连接有抽真空排气口,所述溅镀仓顶部的下端面上连接有阳极电极,所述溅镀仓底部的下端面上连接有阴极电极,所述阴极电极的底部连接有安装板,所述安装板的下端面连接有支撑杆,所述溅镀仓的底部设有与所述支撑杆匹配的通孔,所述支撑杆可滑动连接在所述通孔内,所述支撑杆的底端连接有驱动机构,所述驱动机构驱动所述支撑杆沿所述通孔滑动,所述支撑杆带动所述安装板和所述阴极电极进行升降,从而调节溅镀空间的大小,使所述溅镀机可适应不同大小和不同需求工件,增强适用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 空间 可调 溅镀机 | ||
【主权项】:
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