[实用新型]一种具有屏蔽栅电极的GaN异质结纵向半导体器件有效

专利信息
申请号: 202120499937.3 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN214848638U 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 李茂林;赵起越;蒲小庆;董志文 申请(专利权)人: 英诺赛科(珠海)科技有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/40;H01L29/778
代理公司: 珠海智专专利商标代理有限公司 44262 代理人: 薛飞飞;黄国豪
地址: 519000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供一种具有屏蔽栅电极的GaN异质结纵向半导体器件,纵向半导体器件包括半元胞结构,半元胞结构包括GaN N型重掺杂层、GaNN型漂移区层、势垒层、漏极、源极和栅极,漏极、GaN N型重掺杂层、GaNN型漂移区层和势垒层自下而上依次层叠设置,源极设在势垒层的上方。源极的下方设有介质槽,介质槽在纵向上贯穿势垒层并向下延伸至GaN N型漂移区层内,介质槽的底壁位于GaN N型漂移区层的上表面和下表面之间,介质槽内设置有隔离介质。半元胞结构还包括屏蔽栅电极,栅极与屏蔽栅电极均位于介质槽内并沿纵向间隔布置,屏蔽栅电极位于栅极的下方,栅极和屏蔽栅电极通过隔离介质隔离。该纵向半导体器件能够减小器件开关损耗,提升器件耐压能力。
搜索关键词: 一种 具有 屏蔽 电极 gan 异质结 纵向 半导体器件
【主权项】:
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