[实用新型]一种用于半导体研磨装置有效

专利信息
申请号: 202120500439.6 申请日: 2021-03-08
公开(公告)号: CN214515107U 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 佟明明;高岩;苏可玉 申请(专利权)人: 沈阳天乙新数控机械有限公司
主分类号: B02C19/00 分类号: B02C19/00;B02C23/08;B02C23/02
代理公司: 沈阳天之冠专利代理事务所(普通合伙) 21258 代理人: 钱燕
地址: 110000 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了一种用于半导体研磨装置,包括研磨箱、往复式研磨组件、反向提升式循环下料组件和筛分板,所述研磨箱上设有锥形下料口,所述研磨箱内两侧设有提升腔和驱动腔,所述往复式研磨组件设于驱动腔内,所述反向提升式循环下料组件设于提升腔内,所述筛分板倾斜设于提升腔和驱动腔之间,所述往复式研磨组件包括驱动盘、驱动杆、滑动杆、研磨盘和研磨电机,所述驱动盘可旋转设于驱动腔内;本实用新型属于半导体生产领域,具体是一种通过往复式研磨组件可提高研磨效率,并通过反向提升式循环下料组件的循环下料的作用,进一步提高了研磨效率的用于半导体研磨装置。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 研磨 装置
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