[实用新型]一种用于半导体研磨装置有效
申请号: | 202120500439.6 | 申请日: | 2021-03-08 |
公开(公告)号: | CN214515107U | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 佟明明;高岩;苏可玉 | 申请(专利权)人: | 沈阳天乙新数控机械有限公司 |
主分类号: | B02C19/00 | 分类号: | B02C19/00;B02C23/08;B02C23/02 |
代理公司: | 沈阳天之冠专利代理事务所(普通合伙) 21258 | 代理人: | 钱燕 |
地址: | 110000 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于半导体研磨装置,包括研磨箱、往复式研磨组件、反向提升式循环下料组件和筛分板,所述研磨箱上设有锥形下料口,所述研磨箱内两侧设有提升腔和驱动腔,所述往复式研磨组件设于驱动腔内,所述反向提升式循环下料组件设于提升腔内,所述筛分板倾斜设于提升腔和驱动腔之间,所述往复式研磨组件包括驱动盘、驱动杆、滑动杆、研磨盘和研磨电机,所述驱动盘可旋转设于驱动腔内;本实用新型属于半导体生产领域,具体是一种通过往复式研磨组件可提高研磨效率,并通过反向提升式循环下料组件的循环下料的作用,进一步提高了研磨效率的用于半导体研磨装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 半导体 研磨 装置 | ||
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