[实用新型]一种核孔膜蚀刻线生产装置有效

专利信息
申请号: 202120519397.0 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN215848614U 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 李运杰;莫丹;胡正国;段敬来;姚会军;刘杰 申请(专利权)人: 中国科学院近代物理研究所
主分类号: B26F1/26 分类号: B26F1/26;B26F1/31
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 刘美丽
地址: 730013 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 实用新型涉及一种核孔膜蚀刻线生产装置,该装置包括卷膜装置、蚀刻槽、清洗槽、烘干槽、测厚装置和若干传动轴;所述卷膜装置包括卷膜放料装置和卷膜收料装置,所述卷膜放料装置包括放料卷和放料电机,所述卷膜收料装置包括收料卷和收料电机,所述放料卷转轴连接放料电机,所述收料卷转轴连接收料电机;所述放料卷、蚀刻槽、清洗槽、烘干槽、测厚装置以及收料卷顺序依次间隔设置,所述蚀刻槽、清洗槽及烘干槽的底部均设置有传动轴,且相邻两槽之间上方也设置有传动轴;所述放料卷与蚀刻槽之间以及所述烘干槽与测厚装置之间均设置传动轴;所述测厚装置底部平行间隔设置有两个传动轴,所述蚀刻槽内还设置有清洗装置,用于对所述蚀刻槽内的残渣进行清洗。
搜索关键词: 一种 核孔膜 蚀刻 生产 装置
【主权项】:
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