[实用新型]一种边缘抛光设备优化结构有效
| 申请号： | 202120548691.4 | 申请日： | 2021-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN215470353U | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 张宏杰;刘建伟;武卫;刘园;祝斌;刘姣龙;由佰玲;裴坤羽;孙晨光;王彦君;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;刘秒;吕莹;徐荣清 | 申请（专利权）人： | 天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人： | 栾志超 |
| 地址： | 300384 天津市滨海*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种边缘抛光设备优化结构，包括:抛光件，抛光晶圆边缘；底盘，设置在所述抛光件的底部，转动所述晶圆。本实用新型的有益效果是在各个重要角度能够抛光晶圆的边缘，刚好满足抛光精度需求，既能提高工作效率、提高产能，又能减少材料浪费，降低抛光时间，抛光更加均匀，降低晶圆边缘的粗糙度，同时方便了辅料垫的更换，提高了更换辅料垫的成功率，能够有效的延长辅料垫的寿命，降低生产成本，减小晶圆与辅料垫接触面的擦伤概率，降低接触面的颗粒度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 边缘 抛光 设备 优化结构 | ||
【主权项】：
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