[实用新型]可控硅结构有效

专利信息
申请号: 202120561027.3 申请日: 2021-03-18
公开(公告)号: CN214254427U 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 孙传帮;邵长海;左建伟;杨志伟 申请(专利权)人: 吉林华微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/74 分类号: H01L29/74;H01L29/417;H01L29/423
代理公司: 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 代理人: 唐维虎
地址: 132000 吉*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提供的可控硅结构,涉及功率半导体技术领域。在本申请中,可控硅结构包括半导体结构、阳极结构、门极结构和阴极结构。半导体结构包括第一半导体材料层、第二半导体材料层、第三半导体材料层和第四半导体材料层。阳极结构与第一半导体材料层电连接,门极结构与第三半导体材料层电连接,阴极结构与第四半导体材料层电连接。阳极结构、门极结构和阴极结构至少分布于半导体结构相对的两侧。基于上述设置,可以提高可控硅结构的封装便利性。
搜索关键词: 可控硅 结构
【主权项】:
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