[实用新型]用于降低光波导损耗的处理装置有效
申请号: | 202120562417.2 | 申请日: | 2021-03-18 |
公开(公告)号: | CN215264108U | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 颜博霞;亓岩;王延伟;白谋;韩哲;范元媛 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 佟林松 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种用于降低光波导损耗的处理装置,该处理装置包括加热装置和导热件;所述加热装置至少包括加热板和与所述加热板控制连接的温控系统,所述加热板具有外露设置的加热表面;所述导热件放置于所述加热表面上,其用于承载光子芯片。该处理装置通过设置具有外露加热表面的加热板,实现了开放型加热装置的设计,避免了封闭式加热炉需打开炉门操作导致的光子芯片上应力分布发生变化的弊端;同时通过导热件的设置,可以在加热板的温度降至目标温度时,直接将导热件和光子芯片一并取下,使得光子芯片高效实现预设温度曲线下的低温烘烤处理,达到消除或降低划片造成的应力问题。 | ||
搜索关键词: | 用于 降低 波导 损耗 处理 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202120562417.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种冷却水泵端盖打磨装置
- 下一篇:一种改进气流道的气溶胶发生装置