[实用新型]镀膜装置及其进料组件有效
申请号: | 202120574359.5 | 申请日: | 2021-03-19 |
公开(公告)号: | CN214572216U | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 宗坚;文毅 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 214000 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型主要提供一种镀膜装置及其进料组件,所述镀膜装置的进料组件包括至少一进料主体,所述进料主体上设置有至少一进料口和一进料引流件,所述进料主体包括一封闭端部和一开口端部,所述进料引流件被设置于所述进料主体上且所述进料引流件的末端位于所述开口端部,以将所述进料主体的所述开口端部区隔为多个进料通道,从而使从所述进料口进入的镀膜原料能够从多个所述进料通道沿着所述镀膜腔体的内侧壁扩散至所述镀膜腔体内。所述镀膜装置的进料组件能够对进入所述镀膜装置的镀膜原料的流向进行控制,从而使所述镀膜装置内部的至少一待镀膜产品的表面能够得到均匀镀膜。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 装置 及其 进料 组件 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的