[实用新型]多弧离子镀膜机有效

专利信息
申请号: 202120636477.4 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN214572201U 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 王君;王思航;闫超颖;汪友林;李昌华 申请(专利权)人: 沈阳爱科斯科技有限公司;江苏爱科斯真空科技有限公司;辽宁卓越真空设备有限公司;王君
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 武慧南
地址: 110000 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 本申请涉及真空镀膜技术领域,尤其是涉及一种多弧离子镀膜机。一种多弧离子镀膜机,包括镀膜室以及电弧蒸发源;镀膜室包括侧壁段,侧壁段包括顺次连接而成的多个侧壁,在侧壁段中,相邻侧壁中的其中一个侧壁上至少设置有一个电弧蒸发源,另一个侧壁上至少间隔设置有两个电弧蒸发源,且相邻侧壁上的所述电弧蒸发源在侧壁的高度方向上交错设置。镀膜室上的相邻两个侧壁上的电弧蒸发源在镀膜时,其镀膜面积会重叠,从而形成有有效的镀膜面积,此有效的镀膜面积能够尽可能的保证待镀件的镀膜效果。
搜索关键词: 离子 镀膜
【主权项】:
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