[实用新型]一种成像装置视场角测量系统有效
| 申请号： | 202120658111.7 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN214583963U | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 刘畅 | 申请（专利权）人： | 天津科辉光仪测控技术有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 天津垠坤知识产权代理有限公司 12248 | 代理人： | 江洁 |
| 地址： | 300000 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种成像装置视场角测量系统，位机、双光楔支撑旋转机构以及依次设置的激光器、双光楔和待测成像装置；所述双光楔安装在所述双光楔支撑旋转机构上，所述待测成像装置和所述双光楔支撑旋转机构连接至所述上位机，所述上位机被配置为控制所述双光楔支撑旋转机构调整所述双光楔的角度，从而调整所述双光楔输出至所述待测成像装置的光线的角度。该系统结构简化、紧凑；测量范围大，仅需调节双光楔组件的旋转角度，即可实现测量范围的调节，无需调节测量系统和待测成像装置之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 成像 装置 视场 测量 系统 | ||
【主权项】：
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