[实用新型]一种晶片抛光用多层抛光垫有效

专利信息
申请号: 202120665040.3 申请日: 2021-03-31
公开(公告)号: CN214559983U 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 李加海;谭鸿 申请(专利权)人: 安徽禾臣新材料有限公司
主分类号: B24B37/22 分类号: B24B37/22;B24B37/26
代理公司: 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 代理人: 李照
地址: 238200 安徽省马鞍山市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种晶片抛光用多层抛光垫,包括基础圆板、护圈、吸灰层、抛光层和隔离网,基础圆板、吸灰层和隔离网均位于护圈的内侧,吸灰层的一面侧壁通过粘合剂复合在基础圆板上,吸灰层的另一面侧壁通过粘合剂连接隔离网,隔离网的外表面复合有均匀分布的抛光层,吸灰层、抛光层和隔离网均设有两组,这样多层抛光垫可以双面使用,在一定成程度上减少的原材料的消耗,吸灰层可以承受小规模的形变,来进行灰尘的收集,吸灰层的厚度值较大来保证吸灰量,减少整个抛光垫更换的次数,吸灰层通过隔离网连接抛光层,隔离网和环槽均与护圈的内壁接触连接,环槽安装后起到一定的限位作用,保证隔离网的竖直运动。
搜索关键词: 一种 晶片 抛光 多层
【主权项】:
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