[实用新型]一种活动平台及化学气相沉积装置

摘要

本申请提供一种活动平台及化学气相沉积装置，涉及半导体领域，为解决现有的化学气相沉积装置沉积出的薄膜往往质量不高的问题而发明，该活动平台应用于化学气相沉积装置，包括调节装置和沉积台，所述调节装置固定在所述化学气相沉积装置的反应室的顶部，所述沉积台连接在所述调节装置上，所述调节装置用于调节所述沉积台在所述反应室内的位置。该活动平台利用调节装置可以灵活的调节沉积台在化学气相沉积装置的反应室内的位置，以适应不同的薄膜材料在沉积台上的不同的生长特性，进而可以沉积出均一性更好，质量更高的薄膜。