[实用新型]一种双向进出管式PECVD设备有效
申请号: | 202120783881.4 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN215887226U | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
发明(设计)人: | 高斌;施文成;李友军;李友萍 | 申请(专利权)人: | 无锡德欣光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 无锡市才标专利代理事务所(普通合伙) 32323 | 代理人: | 吕志垚 |
地址: | 214000 江苏省无锡市锡山区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种双向进出管式PECVD设备,包括放舟室、预热室、PECVD反应室、冷却室和取舟室,所述放舟室左侧设置有预热室,所述预热室左侧设置有PECVD反应室,所述PECVD反应室左侧设置有冷却室,所述冷却室左侧设置有取舟室,当石墨舟通过预热室送入PECVD反应室中进行反应,由于反应室中发生的离子反应会有剧烈噪音、辐射、有害气体等,通过防辐射层和隔音层可以有效的隔绝一定的辐射和噪音,通过缓冲垫和弹簧可以有效的对可能发生的震动起到缓冲作用,该机构可以有效防止的PECVD设备内部离子在反应时会有剧烈噪音、辐射、有害气体等,工作人员在工作时会由于这些可能会照成一定的伤害,同时剧烈的噪音可能会导致设置震动,导致反应效果不理想的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 双向 进出 pecvd 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的