[实用新型]一种TFT用高纯铝蚀刻液高效生产装置有效

专利信息
申请号: 202120816378.4 申请日: 2021-04-21
公开(公告)号: CN214862903U 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 何珂;戈烨铭;汤晓春 申请(专利权)人: 江阴润玛电子材料股份有限公司
主分类号: B01F7/20 分类号: B01F7/20;B01F15/06;B01F15/02;B01F15/00;B01D29/33
代理公司: 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309 代理人: 张琪
地址: 214423 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种TFT用高纯铝蚀刻液高效生产装置,属于蚀刻液相关技术领域。包括储料桶,所述储料桶顶部设置有传输管,所述传输管上设置有与储料桶相对应的抽取泵,所述传输管另一端连接混合桶,所述储料桶包括桶体,所述桶体上设置有加料口,所述桶体顶部设置有固定块,所述固定块中间位置设置有抽料管,所述抽料管顶部连接传输管,所述抽料管的表面均匀的设置有多个抽料口,每个抽料口内均设置有滤网,所述固定块底部连接伸缩罩的一端,所述伸缩罩的另一端连接悬浮环,所述伸缩罩和悬浮环均套设在抽料管上。本实用新型可以有效的增大抽料管的抽取面积提高其抽取效率,且提高了该装置生产工作的效率。
搜索关键词: 一种 tft 高纯 蚀刻 高效 生产 装置
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