[实用新型]一种用于低氮高纯碳化硅粉料合成的坩埚有效

专利信息
申请号: 202120836543.2 申请日: 2021-04-22
公开(公告)号: CN218741883U 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 马康夫;魏汝省;赵丽霞;李斌;张继光;张辰宇;李刚;方芃博;陈琪;许正;靳霄曦 申请(专利权)人: 山西烁科晶体有限公司
主分类号: B01J19/00 分类号: B01J19/00;C01B32/984
代理公司: 太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙) 14109 代理人: 崔雪花;冷锦超
地址: 030006 山西省太*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 实用新型公开了一种用于低氮高纯碳化硅粉料合成的坩埚,涉及碳化硅合成技术领域;具体是包括大坩埚和布置在大坩埚内的多个小坩埚,大坩埚的坩埚盖设置有多个第一贯穿孔道,所述大坩埚的坩埚壁上设置有多个第二贯穿孔道,多个小坩埚彼此相间隔,小坩埚的外周设有透气空间,所述原料粉体设置在小坩埚内;本实用新型可有效降低粉料合成过程中的氮浓度,提升粉料纯度;有效避免混合原料在粉料合成过程中逸出坩埚,提升粉料的反应效率。
搜索关键词: 一种 用于 高纯 碳化硅 合成 坩埚
【主权项】:
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