[实用新型]测量拉晶炉熔硅液面高度的结构及拉晶炉有效
申请号: | 202120884689.4 | 申请日: | 2021-04-27 |
公开(公告)号: | CN214992008U | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 孙介楠 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司 |
主分类号: | C30B15/26 | 分类号: | C30B15/26;C30B29/06 |
代理公司: | 北京远创理想知识产权代理事务所(普通合伙) 11513 | 代理人: | 李蔚君 |
地址: | 710032 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种测量拉晶炉熔硅液面高度的结构及拉晶炉,该结构包括固定在导流筒下部的辅助板、线性光源和摄像装置,辅助板接近导流筒中心的内侧面为平面,并且辅助板的内侧面垂直于熔硅液面,辅助板的内侧面的下边缘为水平线段,线性光源发出的线性光照射在辅助板和熔硅液面上,照射在辅助板的内侧面上的线性光与内侧面的下边缘之间的夹角为θ,夹角θ大于0度小于90度,照射在熔硅液面上的线性光能够反射到辅助板的内侧面上,摄像装置能够拍摄辅助板内侧面上的光线。本实用新型提供的测量拉晶炉熔硅液面高度的结构和拉晶炉能够提高对熔硅液面到导流筒底部距离测量的准确性,保证该距离处于预设范围,从而可以确保生产晶体的品质。 | ||
搜索关键词: | 测量 拉晶炉熔硅 液面 高度 结构 拉晶炉 | ||
【主权项】:
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