[实用新型]平面研磨设备有效
申请号: | 202120906434.3 | 申请日: | 2021-04-28 |
公开(公告)号: | CN214685608U | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
发明(设计)人: | 曾志明;杨惠姗;林志昌 | 申请(专利权)人: | 上海琉璃工房琉璃艺术品有限公司 |
主分类号: | B24B7/07 | 分类号: | B24B7/07;B24B41/06;B24B55/00;B24B41/00 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 温开瑞 |
地址: | 201100 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本申请涉及一种平面研磨设备,涉及研磨设备的技术领域,其包括磨盘、架体和围设组件,所述磨盘转动连接于架体,所述围设组件包括修正环和设置于修正环内的夹持片,所述修正环放置于磨盘,所述架体设置有压持组件,所述压持组件包括配重块和用于提升配重块的升降元件,所述升降元件连接于架体,所述配重块抵接于夹持片背向磨盘的一侧。本申请具有使研磨过程中的操作过程相对更简便的效果。 | ||
搜索关键词: | 平面 研磨 设备 | ||
【主权项】:
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